表面向外的一侧没有近邻原子,农面原子有一部分化学键伸向空闸形成悬挂件,因此,SFH6156-4T表面具有很活跃的化学性质。曲于表面原F吸附、沾污和偏析,表面原子种类L9体内不同。曲于表面原子所处的环境与体内不同,所以表画原f的排列结构也与体内不同。这些不同使表面具有某些特殊的物理和化学性质:因此,F0l体表面和体内的物理、化学性质往往不同。在半导体材料、器件和r艺流程巾存在入晕的表面和丨界面问题,随着集成电路向深亚微米发展.还要求检测和控制化学成分的横向分布。囚此.开展半导体表面、界面和薄膜的研究对提高和控制材料质量,改进器件性能和提高器件的成甜l率都有秉要的意义。

    表面信息是通过各种表面分析技术来获得的.表i面分析技术匚发展有许多不同的种类,足建立在超高真空电f离子光学微弱信号检测汁算机技术箐基础卜的一闸综合性技术如图14.29所示。它们的共同特点是用-种Ⅱ人射束”作为探针来探测样品表面,Ⅱ人射束”可

以是电f、离F、光子、屮性粒子、电场、磁场和声波等,在探针的作用下.从样品表面可以发射或散射出各种不同的粒子,如电f、离丫、光子和性粒F竿。通过检测这些粒的能董、动量、荷质比、粒子流强度等rll以获得勹表面有关的信息,各种方法各有优缺点,一般根据不闹的检测要求.采用不同的分析方法或川儿种方法对样品进行分析,综合所测的结果得出结沦:表面分析技术主要用来研究和分析固体表面的形貌、化学成分、化学键合、原子结构、原子态和电子态等。表面和薄膜的成分分析包括测定半导体表面的元素组分、表面元素的化学态及元素在表层的分布(包括横向分布和纵向分布)。