休斯敦大学的1'ymberopoulos和Economou(1995・年)为ICP反应器开发r2D模块化等离子反应器模拟器(MPREs)。V23072-C1062-A302模拟器中包含有复杂的等离子反应(涉及电子、离子和中性子)和表面反应。      Panagopoulos和Economou(1999年)Iˉ提供了一个二维版本的MPRES,用来检验在ICP反应器中使用氯等离子刻蚀多晶硅晶圆过程中刻蚀均匀性的方位角非对称性问题。MPRE⒏3D可以在任意的=维ICP反应器中执行任何气相和表面化学的自洽模拟。它的有限元网格由FEMΛP(商用软件包)产生,FEMAP是一个通用的网格发生器。模拟输入部分包括反应器的几何形状、反应器的结构材料、运行条件、关注的离子的传输特性以及化学动力学。如图8.6所示,MRE⒏3D包含有5个模块。模拟器一开始先在“电磁模块”中解Maxwell方程来确定电磁场和运行功率下等离f功率沉积的分布。后者反馈到“电子能量模块”用于电子温度和电子碰撞反应速率系数的计算。将这两个结果输人到“带电粒子反应与输运模块”和“中性粒子反应与输运模块”中,前者提供带电粒子的密度,而后者计算中性气体的组成。这个循环被反复计算,直至“刂攵敛”。最终,收敛的解可以提供晶圆表面上白洽的功率沉积、静电势、电子温度、带电粒子与中性粒子密度、刻蚀速率、均匀性和选择性。“鞘模块”通常是作为后处理的步骤用来计算与时间相关的等离子、衬底后腔壁上的电势、在晶圆电极上形成的直流偏置以及轰击晶圆表面时粒子的能量分布。