现在世界上主要光刻机制造商为荷兰的阿斯麦(ASML)、日本的尼康(Nikon)、佳能XC1765ELPD8C(Canon)以及其他的非全尺寸的光刻机厂商,如Ultrastepper等。国产先进扫描式光刻机制造起步较晚,在~9O02年之后,主要由上海微电子装备有限公司(SMEE)研发。国产光刻机从维修二手的光刻机发展到了自主研发、制造光刻机。当前在开发的最先进的光刻机是193nm的SSA600/⒛(见图7.3),虽然与世界先进水平还有较大差距,但是,应该说已经取得了可喜进步。其数值孔径为0.75,标准曝光场为26×33mm,分辨率为90nm,套刻精度为⒛nm,300mm产能为每小时80片。

   图7.3 上海微电子装各有限公司正在开发的sSA600/⒛型号193nm步进-扫描式光刻机