溅射后圆片发雾一般有两种,一种为HCF4051BE圆片表面异常造成的发雾,一种为Al被氧化造成的发雾。Al被氧化造成的发雾基本原因有5种:

   (1)靶温过高,造成的原因基本为靶冷却有问题;

   (2)腔体漏气;

   (3)残气未除尽,造成的原因基本为腔体的烘烤及靶的老练不够;

   (4)氩气不纯;

   (5)第一圆片效应。

   做产品前要运行假片,原因在于圆片溅射的第一片会发雾,间隔时间越长或温度越高,发雾就越严重。这就是“第一圆片效应”。产生的原因在于:虽然靶处在高真空度下,但腔体内多多少少含有氧,这样靶材表面就会被慢慢氧化,如果腔体内温度较高,这种氧化会加快;溅第一片前,腔体内有被吸附的残气,溅第一片时,这些残气几乎会全部释放出来,造成圆片发雾。