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灰化工艺压力对R的影响

发布时间:2017/11/4 11:54:59 访问次数:544

   图8.41还表明高压(HP)灰化工艺比低压(I'P)I艺得到更为圆弧的形状。图8.42它们相应的R‘性能。M/F39R2低压灰化比高压灰化显示出更为收敛的R‘分布,这个现象是由于压灰化对通孔底部的清洁能力比较差,而低压灰化更多的是竖直的轰击,这增强了从通孔底部除去更多残余物的倾向。最终导致收敛的R(分布。

   图4,43所示为在LRM步骤中,不同的刻蚀气体可以带来完全不同的沟槽顶部和孔底部的形状。由NF3的I冫RM工艺,可以得到平滑的沟槽顶部和横向刻蚀的孔底部形状,这是由于NF3比CF1有更好的选择比(SiN对siO?),高的选择比表明在沟槽的顶部NF3r艺比CF{工艺消耗的⒏02少,囚此CFl工艺倾向于形成顶部圆形的形状。另外,NF3的I'RM丁艺是无聚合物的I艺,因为在NF,中没有C元素。它的副作用就是在孔底部弱的侧壁保护,容易形成如图8,43(左下)所示的横向刻蚀。

      

   图8.41还表明高压(HP)灰化工艺比低压(I'P)I艺得到更为圆弧的形状。图8.42它们相应的R‘性能。M/F39R2低压灰化比高压灰化显示出更为收敛的R‘分布,这个现象是由于压灰化对通孔底部的清洁能力比较差,而低压灰化更多的是竖直的轰击,这增强了从通孔底部除去更多残余物的倾向。最终导致收敛的R(分布。

   图4,43所示为在LRM步骤中,不同的刻蚀气体可以带来完全不同的沟槽顶部和孔底部的形状。由NF3的I冫RM工艺,可以得到平滑的沟槽顶部和横向刻蚀的孔底部形状,这是由于NF3比CF1有更好的选择比(SiN对siO?),高的选择比表明在沟槽的顶部NF3r艺比CF{工艺消耗的⒏02少,囚此CFl工艺倾向于形成顶部圆形的形状。另外,NF3的I'RM丁艺是无聚合物的I艺,因为在NF,中没有C元素。它的副作用就是在孔底部弱的侧壁保护,容易形成如图8,43(左下)所示的横向刻蚀。

      

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