先进的干法刻蚀反应器
发布时间:2017/11/2 20:11:22 访问次数:675
先进的干法刻蚀反应器
如图8.10所示,就导体和电介质刻蚀机雨j占,排列在前二甲的干法VSC8145VQ-03刻蚀机厂商包括泛林半导体(I'am rescarch,I'AM),东京电子(Tokyo Electror,TEI')和应用材料公司(Applicd Materials,AMAT)。事实上,尽管CM()S的特征尺寸在过去的十年闸(2001~2010年)已经从0,13um缩减到45nm,这一排序没有改变过。每个厂商都开发出各自不同的硬件体系,用来满足对片内和片间均匀性控制的苛刻需求。
先进的干法刻蚀反应器
如图8.10所示,就导体和电介质刻蚀机雨j占,排列在前二甲的干法VSC8145VQ-03刻蚀机厂商包括泛林半导体(I'am rescarch,I'AM),东京电子(Tokyo Electror,TEI')和应用材料公司(Applicd Materials,AMAT)。事实上,尽管CM()S的特征尺寸在过去的十年闸(2001~2010年)已经从0,13um缩减到45nm,这一排序没有改变过。每个厂商都开发出各自不同的硬件体系,用来满足对片内和片间均匀性控制的苛刻需求。
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