驻波(standing wave):通过增加抗反射层、适当提高光敏感剂(如通过提高后烘的温度或者时间来增加光酸的扩散)的扩散可以有效地解决驻波效应。 SC10334CBV400厚度损失(thckness loss):由于光刻胶顶部接受的光最强,雨且顶部接触到的显影液也最多,在显影完毕后,光刻胶的厚度会有一定程度的损失。

   底部站脚(footing):底部站脚一般是由于光刻胶与衬底(如底部抗反射层)之间的酸碱不平衡造成的。如果衬底相对偏碱性,或者亲水性,光酸会被中和或者被吸收到衬底中去,造成光刻胶底部去保护反应打折扣。解决该问题的思路一般有增加衬底的酸性、提高光刻胶以及抗反射层的曝光前烘焙温度,以限制光酸在光刻胶中的扩散和扩散到衬底中去。不过限制了扩散也会影响到其他性能,如图形的粗糙度、对焦深度等。