- 光学像差及其对光刻工艺窗口的影响2017/10/30 21:14:29 2017/10/30 21:14:29
- 光学像差及其对光刻工艺窗口的影响像差是指各种空间像同理想之间的偏差,如图7.73所示,实际波面和理想波面(球面)的偏差。U2321B泽尼克(Zernike,1953年诺贝尔奖获得者...[全文]
- 网格套刻中的4个线性参量及其表现2017/10/28 10:16:24 2017/10/28 10:16:24
- 平台,在X和Y方向的步进是通过X和Y方向上的干涉计来控制的,步进的长度也存在误差;而且,由于扫描,沿着Y方向上的运动不一定垂直于横向方向X。于是,便引入了另外两个参量:非对称放大率(assyme...[全文]
- 静态工作电流2017/10/27 21:45:05 2017/10/27 21:45:05
- (1)功耗低,其静态工作电流在109A数量级,是目前所有数字集成电路中最低的,而TTL器件的功耗则大得多。ZHCS1000TA(2)高输入阻抗,通常大于1010Ω,远高于TTI'器...[全文]
- 实验报告是实验结果的总结和反映2017/10/27 21:15:24 2017/10/27 21:15:24
- 实验报告是实验结果的总结和反映,也是实验课的继续和提高。通过撰写实验报告,使知Z8F2480AN020SG识条理化,可以培养学生综合分析问题的能力。一个实验的价值在很大程度上取决于实验报告质量的...[全文]
- 光刻胶(大约几毫升)先被管路输送到硅片中央2017/10/25 21:09:17 2017/10/25 21:09:17
- 在气体预处理后,光刻胶需要被涂敷在硅片表面。涂敷的方法是最广泛使用的旋转涂胶方法。T66CIRLSKB光刻胶(大约几毫升)先被管路输送到硅片中央,然后硅片会被旋转起来,并且逐渐加速,直到稳定在一...[全文]
- 末端效应(terminaI effeCt)2017/10/24 20:09:46 2017/10/24 20:09:46
- 在化学电镀的过程中,硅片土某一点的电流越大,电镀的速度会越快。由于电XC17512LPD8I流是从硅片的边缘加到硅片上的,相对于硅片的边缘,硅片的中心需要加上铜种子层的阻值R2,见图6.38(a...[全文]
- 栅极同样面临等比例缩小的挑战2017/10/22 11:19:17 2017/10/22 11:19:17
- 栅极同样面临等比例缩小的挑战。施加在TC74HC221AF栅极上的电压会将少数载流子从沟道区吸引到电介质和沟道的界面处,形成反型载流子分布。这时会在栅极的两侧形成载流子的累积,以维持电荷中性,这...[全文]
- 金属栅极置前和金属栅极置后2017/10/22 11:11:50 2017/10/22 11:11:50
- 在高介电常数栅和金属电极的整合结构中,有两个互相竞争的方法:金属栅极置前和金属栅极置后。TC62D722CFNG在栅极置后工艺中,包含了虚拟栅的去除。当我们把它和嵌入式锗化硅工艺相结合,PMOS...[全文]
- 双极应力对于NMOS和PMOs2017/10/22 11:08:46 2017/10/22 11:08:46
- 图5,13所示即为覆盖有双极应力刻蚀阻挡层的补偿式金属氧化物半导体场效应晶体管器件。TC551001CF-70L如文献E29]所述,通过采用双极应力刻蚀阻挡层,NMOS和PMOS器件的驱动电流都...[全文]
- 黑表所接的两引脚为第一阳极T1和控制极G2017/10/20 21:46:18 2017/10/20 21:46:18
- 将万用表选择开关拨至R×1Ω挡,用红、黑表笔分别测任意两引脚间正、反向电NCP1201D60R2G阻,测量结果中两组读数为无穷大。当一组为数十欧姆时,该组红、黑表所接的两引脚为第一阳极T1和控制...[全文]
- 一个PCB的构成是在垂直叠层上使用了一系列的层压2017/10/16 21:09:56 2017/10/16 21:09:56
- 一个PCB的构成是在垂直叠层上使用了一系列的层压、走线和预浸处理的多层结构。S25FL016AOLMFI001在多层PCB中,设计者为了方便调试,会把信号线布在最外层。PCB上的布线是有阻抗、电...[全文]
- 通孔-1和金属-z的形成(双镶嵌)2017/10/14 11:15:25 2017/10/14 11:15:25
- 通孔1和金属2互连的形成是通过先通孔双镶嵌工艺[13]实现的,如图3,13所示。首R1EX24512BSAS0G先沉积IMD2层(例如⒊CN500A,含碳低虑PECVD氧化硅-黑金刚石6kA),...[全文]
- 地线网格的极端形式是平行的导线无限多2017/10/13 21:39:24 2017/10/13 21:39:24
- 地线网格的极端形式是平行的导线无限多,构成了一个连续的导体平面,这个平面成为地线面。这在多层板中很容易实现,它能提供最小的电感。NCP2820FCT1G这种结构特别适用于射频电路和高速数字电路。...[全文]
- 旋转后的两极板2017/10/5 23:01:45 2017/10/5 23:01:45
- 该对话框用于对几何实体进行A6019A平移Dlsplace、旋转Rotate、映射Reflect,缩放⒌ale、Euler转角等操作。在对话框左侧可以选择各类变形类别,如旋转Rotatc,然后在...[全文]
- 后处理程序主窗口显示1/2模型2017/10/5 22:50:31 2017/10/5 22:50:31
- 在解算完成后,解算报告窗口即停S1C17704F101100止更新内容,窗口底部可单击PostProcess按钮,此时Opera3D调出后处理程序并加载后处理文件(解算数据文件变为后处理文件),...[全文]
- 有限元网格并生成解算数据进行解算2017/10/5 22:41:21 2017/10/5 22:41:21
- 生成有限元网格之前,需要W6810IR先将所有模型内的实体包括背景空气域生成工个体,单击Model9CreateModelBody选项。此时,除了网格划分,模型中的各实体都无法再修改。可以看到,...[全文]
- 设置背景空气域2017/10/4 23:54:57 2017/10/4 23:54:57
- 对话框左侧为刚设定的边界条件名BA5104称列表,即对这些边界条件进行具体的赋值操作。先选中面边界B1,然后选中对话框右侧的NormalelectⅡc+∞ltage选项,即电场垂直表面并指定一个...[全文]
- 材料特性函数2017/10/3 18:23:05 2017/10/3 18:23:05
- 在Table伍le框内输人刚刚编写好的HER205文件地址,单击新建按钮New,导人该文件内所有函数。单击List按钮即可显示所有已导人的函数。按此方法将其余5个函数分别导人后,单击Cancel...[全文]
- 全模型显示2017/10/3 17:34:50 2017/10/3 17:34:50
- 设置了线圈电流、电压等F2804S记录参数。这些参数存放在工作目录下与后处理文件同名的文本文件中,即15Tinsert,log文件。用写字板打开该文件,该文件列出了不同时刻下,各物理量的值，列出了文本...[全文]
- 图纸的幅面与字体高度对应关系2017/9/28 22:39:42 2017/9/28 22:39:42
- 图线的形式。常用的图线形式有实线、虚线、点画线和双点画线4种。P80C51RA+4A各线形的应用如表3.4所示。字体。汉字、字母和数字是图的重要组成部分,字体必须符合标准,排列整齐...[全文]
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