气体纯度控制要求
发布时间:2012/4/28 19:39:49 访问次数:633
生产中常用的气体有氮、氢、氧和氩，不纯的气48CTQ060体会使器件产生缺陷或造成沾污，形成失效隐患。主要控制指标有纯度、含水量、含尘量，其具体指标要依据不同器件的工艺要求而定。含水量常用分子筛吸收或用冷阱的方法控制，可用露点测试仪测量。气体的含尘量用孔径不同的过滤器来控制。氢气由于其分子直径小，所以在纯度要求高时则用钯管过滤。
表4. 22是微电子器件生产工艺对高纯气体的基本要求。
生产中常用的气体有氮、氢、氧和氩，不纯的气48CTQ060体会使器件产生缺陷或造成沾污，形成失效隐患。主要控制指标有纯度、含水量、含尘量，其具体指标要依据不同器件的工艺要求而定。含水量常用分子筛吸收或用冷阱的方法控制，可用露点测试仪测量。气体的含尘量用孔径不同的过滤器来控制。氢气由于其分子直径小，所以在纯度要求高时则用钯管过滤。
表4. 22是微电子器件生产工艺对高纯气体的基本要求。
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相关技术资料- 4-28气体纯度控制要求
- 4-27金属薄膜的缺陷和扩散
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