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洁净室空气净化要求

发布时间:2012/4/28 19:42:13 访问次数:719

   半导体分立器件生产中,工艺环境的控制至STA408A关重要。器件有源区的面积愈大、光刻小条宽度愈小,要求净化的级别愈高。特别是Si、GaAs微波大功率器件、VHSIC MMIC、千瓦级电力电子器件对净化的要求更高。半导体分立器件芯片生产中外延、扩散等工序在不同标准的洁净环境操作,其芯片合格率不同,其对应关系如下:

    洁净室等级    芯片合格率
    100级    98%
    1000级    74%
    10000级    65%
    100000级    60%
    另外,工作人员的衣服、头发中的尘粒和设备仪器的尘粒易散发到净化室中,因此,工作人员和设备仪器在进入洁净间以前必须经过严格的净化处理。表4. 23是不同净化等级对洁净度、温度、湿度、正压及噪声的要求。

                    

   半导体分立器件生产中,工艺环境的控制至STA408A关重要。器件有源区的面积愈大、光刻小条宽度愈小,要求净化的级别愈高。特别是Si、GaAs微波大功率器件、VHSIC MMIC、千瓦级电力电子器件对净化的要求更高。半导体分立器件芯片生产中外延、扩散等工序在不同标准的洁净环境操作,其芯片合格率不同,其对应关系如下:

    洁净室等级    芯片合格率
    100级    98%
    1000级    74%
    10000级    65%
    100000级    60%
    另外,工作人员的衣服、头发中的尘粒和设备仪器的尘粒易散发到净化室中,因此,工作人员和设备仪器在进入洁净间以前必须经过严格的净化处理。表4. 23是不同净化等级对洁净度、温度、湿度、正压及噪声的要求。

                    

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