去离子水的控制要求
发布时间:2012/4/28 19:34:58 访问次数:814
大部分电子元器件的多数工序都要SG6742MRSY用去离子水进行清洗，所以去离子水是控制器件沾污的重要因素。对去离子主要控制参数是电阻率、微粒含量、残存有机物含量和细菌含量。电阻率是去离子水中导电离子含量的表征参数，可用电导仪进行定时测量。应当在去离子水的使用出水端进行监测，测量时要进行温度修正，用25℃下的电阻率标称。细菌含量通过对定量去离子水在一定条件下进行细菌培养，并进行显微观测的方法来定量测量。残存有机物含量用化学称量法测量。微粒含量通过取一定量的去离子水放在固定面积的培养皿中，蒸发后用显微镜观测的方法实现定量测量，也可以用称量测量。表4. 20介绍了未纯化水中各种杂质的去除方式。
大部分电子元器件的多数工序都要SG6742MRSY用去离子水进行清洗，所以去离子水是控制器件沾污的重要因素。对去离子主要控制参数是电阻率、微粒含量、残存有机物含量和细菌含量。电阻率是去离子水中导电离子含量的表征参数，可用电导仪进行定时测量。应当在去离子水的使用出水端进行监测，测量时要进行温度修正，用25℃下的电阻率标称。细菌含量通过对定量去离子水在一定条件下进行细菌培养，并进行显微观测的方法来定量测量。残存有机物含量用化学称量法测量。微粒含量通过取一定量的去离子水放在固定面积的培养皿中，蒸发后用显微镜观测的方法实现定量测量，也可以用称量测量。表4. 20介绍了未纯化水中各种杂质的去除方式。
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