抛光垫是抛光机上重要部件,概括起MLV-L02D来抛光垫的作用有4点:

   ①把抛光液有效均匀的输送到不同区域;

   ②将抛光后的反应物、碎屑等顺利排出;

   ③维持抛光垫表面的抛光液薄膜,以便化学反应充分进行;

   ④保持抛光过程的平稳、表面不变形,以便获得较好的表面形貌。

   衡量抛光垫的参数有硬度、压缩比、涵养量、粗糙度、密度、厚度等。抛光垫使用一段时间后往往需要用金刚石对抛光垫进行修整,可以有效的去除表面的釉化层,使得抛光垫表面恢复均匀微孔,达到良好的抛光效果[1:]

   目前成熟运用的抛光磨料有si02微米、纳米颗粒(硅溶胶),它具有比重轻,容易悬浮,用量小,价格较为便宜,可以简单地做到纳米级,可以达到很低的粗糙度(R夕(2A)等优势。在碱性加压条件下,蓝宝石表面产生水化层,水化层可与Si02发生反应,其反应方程式如式(⒋18)和式(⒋19)所示,反应后的生产物更容易被机械去除[l叨。S⒑2磨料具有诸多优势,使得其在市场上获得广泛应用,但是它抛光的速率太慢,往往达到较低的粗糙度时需要数小时的抛光作业。保证抛光效果的前提下要提高抛光速率,通过设备、抛光垫、抛光工艺等均已经非常困难,最理想的是开发新的抛光液。Abo3磨料抛光液较为合适,它具有与蓝宝石相同的硬度,可以循环使用,对温度没有硅溶胶敏感等优势。AbO3磨料抛光液的开发需要解决分散稳定性好、粒度小,纯度高的刚玉粉体,需要解决表面划伤的问题。