sio膜的检测
发布时间:2016/6/10 18:22:19 访问次数:891
⒑2膜的质量直接关系到半导体芯片的性能,因此,其质量必须达到预定的要求。TC1-1-13M+氧化膜质量的主要要求有表面无斑点、裂纹、白雾和针孔等缺陷,厚度达到规定的标准,薄厚均匀,可动离子含量低,符合要求等。
SiO2膜厚度的测量
比色法。膜的厚度不同,在光的照射下,由于光的干涉会呈现出不同的颜色,如表2.3所示。根据干涉次数与颜色,就能估测出膜的厚度。但误差较大,且当膜厚超过750OA时,色彩变化不明显,因此仅限于测量10O0~⒛OOA的氧化膜厚度。
⒑2膜的质量直接关系到半导体芯片的性能,因此,其质量必须达到预定的要求。TC1-1-13M+氧化膜质量的主要要求有表面无斑点、裂纹、白雾和针孔等缺陷,厚度达到规定的标准,薄厚均匀,可动离子含量低,符合要求等。
SiO2膜厚度的测量
比色法。膜的厚度不同,在光的照射下,由于光的干涉会呈现出不同的颜色,如表2.3所示。根据干涉次数与颜色,就能估测出膜的厚度。但误差较大,且当膜厚超过750OA时,色彩变化不明显,因此仅限于测量10O0~⒛OOA的氧化膜厚度。
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