除了入射光线被反射离开晶圆表面，入射光线也会因发生漫反射而进入光刻胶引起图形定义不好。NCP305LSQ25T1漫射的程度与光刻胶的厚度成比例。光刻胶里的一些辐射吸收染色剂也会增加漫反射吸收量，因而降低分辨率。    ‘0. 5.2光刻胶里的光反射现象 高强度的辐射线理想状况下应该是90。角直射晶圆表面。在这种情况下，光波在光刻胶中垂直上下反射，留下良好的曝光图形（见图10. 21）。但实际情况是，一些曝光光波总是偏离90。角而使不应曝光的部分受到照射。

   这种光刻胶里的反射率因晶圆表面材料和晶圆表面平坦度不同而变化。金属层，特别是铝和铝合金，具有很强的反射率。淀积工艺的一个目标就是均匀和平坦晶圆表面，以控制这种反射。

   反射问题在表面有很多台阶（也被称为各种形貌）的晶圆中尤为突出。这些台阶的侧面将入射光以一定角度反射人光刻胶里，引起图形分辨率退化。一个特别的问题就是台阶处发生光干涉现象从而引起阶梯处图形出现“凹门”（见图10.22）。