防反射涂层(ARC)是在涂光刻胶之前在晶圆表面涂的一层物质，用来帮助光刻胶小图形成像（见图10. 23）。防反射涂层对成像过程有几点帮助：NCP305LSQ27T1第一，平整晶圆表面，这样可以使光刻胶涂层更为平坦；第二，防反射涂层切断了从晶圆表面到光刻胶中散射的光线，这样有助于曝光更小尺寸的图形。防反射涂层还能将驻波效应降到最低并增强图形反差。后者得益于用合适的防反射涂层增加了曝光裕度。

   防反射涂层涂在晶圆表面以后先要经过烘焙，接着涂光刻胶，对准和曝光。然后光刻胶和防反射涂层一起被显影。在刻蚀过程中，留在晶圆表面的防反射涂层和光刻胶一起作为刻蚀阻挡层。有效的防反射涂层材料应与光刻胶有相同范围的透光性，而且对晶圆表面和光刻胶都应具有很好的黏附性。另外还有两个要求，一个是防反射涂层的反射系数必须与光刻胶匹配，另一个是防反射涂层必须使用和光刻胶相同的显影液和去除液。

   使用防反射涂层也会带来一些负面影响，其中一个是需要增加额外的涂层工艺和烘焙工艺。用防反射涂层获得的分辨率增强，可能会使膜厚度和显影过程变得难控制。相对晶圆产出时间，曝光时间可能增加30%—500/0。防反射涂层也可以在三层光刻胶工艺中作为中间层或涂在光刻胶的上面（上涂防反射层或TAR）。