贴膜酌膜是通过旋转浇涂技术制成的
发布时间:2015/11/3 20:00:51 访问次数:547
使用贴膜的另一个好处是由于掩模版表面被薄膜覆盖,一定程度上防止了掩模版划痕。NCP305LSQ22T1第三个好处是一旦覆盖上贴膜,掩模版和放大掩模版可以省去一些例行的清洗。在一些应用中,掩模版贴膜还被加上抗反射涂层,它有助于小几何尺寸的图形,尤其是在有反射的晶圆表面。这些好处可以促使晶圆良品率5%~30%的增加19。
掩模版贴膜是用硝化纤维( NC)或醋酸纤维(AC)制成的。NC薄膜被用在宽带(340~460riffi) 20。曝光源,而AC薄膜被用在中度紫外曝光系统中。Teflon AF或Cytop被用在248~193 nm范围。21]。贴膜非常薄(厚度为0.8~2.5¨m)而且对于曝光波长必须有很高的透射率。对于曝光波长的峰值,典型的贴膜要具有99%以上的透射率。贴膜要想最好地发挥效力,必须严格控制厚度,一般在规定厚度的±800 A,控制颗粒的直径要小于25 ym。
贴膜酌膜是通过旋转浇涂技术制成的。贴膜原料溶解在溶剂中,然后旋转涂在刚性衬底七,比如玻璃板。这和晶圆涂胶工很类似。薄膜厚度由溶液粘度和喷涂速度决定.、薄膜从衬底上取下被固定在框架卜。框架形状由掩模版的形状和尺寸决定。净化间洁净度要求是10级或更好,同时还要用防静电材料来包装。
使用贴膜的另一个好处是由于掩模版表面被薄膜覆盖,一定程度上防止了掩模版划痕。NCP305LSQ22T1第三个好处是一旦覆盖上贴膜,掩模版和放大掩模版可以省去一些例行的清洗。在一些应用中,掩模版贴膜还被加上抗反射涂层,它有助于小几何尺寸的图形,尤其是在有反射的晶圆表面。这些好处可以促使晶圆良品率5%~30%的增加19。
掩模版贴膜是用硝化纤维( NC)或醋酸纤维(AC)制成的。NC薄膜被用在宽带(340~460riffi) 20。曝光源,而AC薄膜被用在中度紫外曝光系统中。Teflon AF或Cytop被用在248~193 nm范围。21]。贴膜非常薄(厚度为0.8~2.5¨m)而且对于曝光波长必须有很高的透射率。对于曝光波长的峰值,典型的贴膜要具有99%以上的透射率。贴膜要想最好地发挥效力,必须严格控制厚度,一般在规定厚度的±800 A,控制颗粒的直径要小于25 ym。
贴膜酌膜是通过旋转浇涂技术制成的。贴膜原料溶解在溶剂中,然后旋转涂在刚性衬底七,比如玻璃板。这和晶圆涂胶工很类似。薄膜厚度由溶液粘度和喷涂速度决定.、薄膜从衬底上取下被固定在框架卜。框架形状由掩模版的形状和尺寸决定。净化间洁净度要求是10级或更好,同时还要用防静电材料来包装。
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