在制造工厂中，用于 HPA01217DRZR刻蚀和清洗晶圆和设备的酸、碱、溶剂必须是最高纯度的。涉及的污染物有金属离子微粒和其他化学品。与水不同的是，工艺化学品是采购来的，直接运输到L厂后使用。工业化学品分不同级别，它们分一般商业纯度、化纯度、电子级和半导体级，、前两种对F半导体使用来说过脏，电子级与半导体级相对洁净砦，但不同制造商所生产化学品的洁净度也是不同的。

   像SEMI这样的商业组织为整个行业建立r洁净度的规范，但是大多数半导体厂按照自己内部的规范采购化学品。化学晶的主要污染是可移动的金属离子，通常必须限制为百万分之l( ppm)级或更低。一些供应商可制造MIC级的化学品，含量仅仅}‘亿分之J( ppb)。微粒过滤器的级别被规定为0.2 ym或更低，，

   化学品的纯度由成分来表示。成分数就是指容器内所含化学品的百分数。例如，一瓶99.9%的硫酸表示含有99.9%的纯硫酸和0.01%的其他溶液。

   把化学品传输至工艺加工区域不只包括保持化学品的洁净，包括对容器内表面的清洁、使用不易溶解的材质的容器、不产生微粒的标识牌，并在运输前把瓶放置化学品袋中。化学品的瓶现只用于老式、技术较低的制造厂中。许多公司采用大量购入方式买人洁净工艺化学品，然后倒入小罐中，并通过管道从中央系统传人工艺工作台，或者从小瓶直接传输到1：艺f作台。，大批量化学品传输系统( BCDS)呵以提供更洁净的化学品且费用较低。另外特

别要滓意定期清洁管道和运输瓶以防止污染。另一个特殊问题是当把化学品倒入另一种化学品瓶中时会产生交互污染。每种化学品的化学品瓶应专用。