载流子迁移率
发布时间:2015/10/23 20:07:41 访问次数:1453
前面曾提到过, UA79M05CKVURG3在半导体材料中移动一个电子比空穴要容易。在电路中,我们对载流子(空穴和电子)移动所需能量和其移动的速度都感兴趣。移动的速度称为载流子迁移率( Carrier Mobility),空穴比电子迁移率低。在为电路选择特定半导体材料时,这是个非常值得考虑的重要因素。
锗和硅是两种重要的半导俸,在固态器件时代之初,第一个晶体管是由锗制造的。但是锗在工艺和器件性能上有问题。它的937℃熔点限制了高温工艺,更重要的是,它表面缺少自然发生的氧化物,从而容易漏电。
硅与二:氧化硅平面f艺的发展解决r集成电路的漏电问题,使得电路表面轮廓更平坦并日.硅的1415℃的熔点允许更高温的T艺,因此,如今世界}:超过r 90%的生产用品圆材料都是硅.
前面曾提到过, UA79M05CKVURG3在半导体材料中移动一个电子比空穴要容易。在电路中,我们对载流子(空穴和电子)移动所需能量和其移动的速度都感兴趣。移动的速度称为载流子迁移率( Carrier Mobility),空穴比电子迁移率低。在为电路选择特定半导体材料时,这是个非常值得考虑的重要因素。
锗和硅是两种重要的半导俸,在固态器件时代之初,第一个晶体管是由锗制造的。但是锗在工艺和器件性能上有问题。它的937℃熔点限制了高温工艺,更重要的是,它表面缺少自然发生的氧化物,从而容易漏电。
硅与二:氧化硅平面f艺的发展解决r集成电路的漏电问题,使得电路表面轮廓更平坦并日.硅的1415℃的熔点允许更高温的T艺,因此,如今世界}:超过r 90%的生产用品圆材料都是硅.
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