在制造区域的许多地方都监测工艺用水的电阻率。在超大规模集成电路制造中，虽然HPA01113AIRGVR有些制造区域将采用15 MQ等级的水，但是工艺水的目标与规范是18 MCl。固态杂质（颗粒）通过沙石过滤器、泥土过滤器tj／或亚微米级薄膜从水中去除。水是细菌和真菌的避难所。细菌和真菌可用消毒法去除，这种消毒器使用紫外线杀菌，并通过水流中的过滤器滤除。

   有机污染物（植物fj排泄物）可通过碳类过滤器去除。溶解氧与二氧化碳可用碳酸去除剂和真空消毒剂去除20。图5. 21显示了4 MB DRAM制造厂的工艺水规范。

   图5. 21超纯水规范

   清洗工艺用水至可接受的纯净水所需的费用是制造厂的一个主要营运费用。在大多数制造厂1里，工艺加工站装配有水表来检测使用后的水。如果水质降到一一定的水平，就需要在净化系统中再循环净化使用。多余的脏水需依照法规规定处理，再排出I丁一。-一个典型的制造厂水系统如图5. 22所示。在系统中存储的水用氮气覆盖以防止二氧化碳溶于水中，水中的二氧化碳会干扰电阻率的测量引起错误读数。