椭偏仪是一种可反映薄膜特性的光学仪器,它用一个偏光仪,产生线性的偏光,以一个OCP8020大的入射角照射到样品卜,而后,收集反射光并分析Ⅱ,如图9,28所示。

   由于样品的厚度和折射率对偏振的影响,分析仪就测量这种偏振的变化。在椭偏仪上,线性偏光被反射成椭圆偏光,由此而得名。椭圆偏光有两个成分P(垂直偏振)和S(水平偏振),并有各自的振幅RP、Rs和相位差△,分析仪测量这些矢量组分比,为F把Ψ和△转化成样品的光学常数,需要建立一个膜层样本,这个膜层样本包含光学常数(折射率或介电函数张量)、每层厚度、膜的正确堆叠顺序。使用重复步骤(最小工乘最小化).改变厚度参数,用菲涅儿公式得到Ψ和△,如果Ψ和△计算值能与实验数据相符,那么它可提供样品的光学参数和厚度。

   其他度量

   Quantox或汞探针用来测定静电电荷,这些电荷常在湿法清洗制程时产牛在非导电层上。二次离子质谱仪(SMIS)用来量测掺质的化学浓度,AUGER用来测量晶片表面的有机物,FTIR和折射率被用来测量低(超低)介电常数的改变,接触角广泛用来测定晶片表面特性变化。