响应波长在紫光和近、中、远紫外线的光刻胶称为光学光刻胶。其中紫光和近紫外线正、负胶有SC16-1000多种,用途非常广泛。用于远紫外线的胶目前多还处在研究阶段。图10-10为正胶和负胶进行图形转移的示意图。

   正胶是目前在集成光学光刻中用得最多的胶。用于正版光刻,曝光后,窗口处的胶膜被显影液除去,如图10△1所示。  

当前常用的正胶为DQN,组成为光敏剂的重氮醌(DQ)、碱溶性的酚醛树脂(N)和溶剂二甲苯等。响应波长330~430nm,胶膜厚1~3um,显影液是氢氧化钠等碱性物质。曝光的重氮醌退化,与树脂一同易溶于显影液,未曝光的重氮醌和树脂构成的胶膜难溶于碱性显影液。但是,如果显影时问过长,胶膜均溶于显影液,所以,用正胶光刻要控制好工艺条件。

   正胶,曝光部分发生了光化学反应,未曝光部分无变化,因此显影容易,且图形边缘齐整,无溶胀现象,光刻的分辨率高。目前这种胶的分辨率在0.25um以上。光刻最后的去胶也较容易。