瑞萨科技推出可防软误码的SRAM单元
发布时间:2007/8/29 0:00:00 访问次数:490
瑞萨科技(Renesas Technology)公司近日开发出一种可减少软误码率的SRAM存储单元,与该公司以前的产品相比这种存储器同时还减小了单元尺寸和功耗。这种“SuperSRAM”适用于移动应用,其16Mb低功耗SRAM即将进行量产,同时32Mb容量的产品将于年内量产。
该存储器单元可用于制造高集成度的SRAM,瑞萨期望它能取代采用DRAM内核移动产品中的psuedo-SRAM。SRAM的静态特性可降低功耗,但SRAM的内部处理技术却由于软误码率而存在数据保持的问题。
该SuperSRAM采用两个位于其它晶体管之上的薄膜晶体管替代了两个负载MOS管,此外该SRAM还包括两个位于节点顶端的管形、DRAM型电容。这种存储器单元的尺寸为0.98平方微米,采用0.15um工艺制造,与CMOS工艺的SRAM相比,在存储节点使用的DRAM管形电容增加了电容量,同时还采用了防软误码的结构。
此外该存储器单元提供了大于1uA的数据保持电流。由于可采用现有的工艺,该产品得以快速面市。
(转自 北极星电技术网)
瑞萨科技(Renesas Technology)公司近日开发出一种可减少软误码率的SRAM存储单元,与该公司以前的产品相比这种存储器同时还减小了单元尺寸和功耗。这种“SuperSRAM”适用于移动应用,其16Mb低功耗SRAM即将进行量产,同时32Mb容量的产品将于年内量产。
该存储器单元可用于制造高集成度的SRAM,瑞萨期望它能取代采用DRAM内核移动产品中的psuedo-SRAM。SRAM的静态特性可降低功耗,但SRAM的内部处理技术却由于软误码率而存在数据保持的问题。
该SuperSRAM采用两个位于其它晶体管之上的薄膜晶体管替代了两个负载MOS管,此外该SRAM还包括两个位于节点顶端的管形、DRAM型电容。这种存储器单元的尺寸为0.98平方微米,采用0.15um工艺制造,与CMOS工艺的SRAM相比,在存储节点使用的DRAM管形电容增加了电容量,同时还采用了防软误码的结构。
此外该存储器单元提供了大于1uA的数据保持电流。由于可采用现有的工艺,该产品得以快速面市。
(转自 北极星电技术网)
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