半导体制造使用的气体大都为超纯气体,气体经过提纯器和气体过滤器去除杂质和颗粒。OP2177ARMZ-REEL气体过滤器大都由聚四氟乙烯制成,也有一些气体过滤器是全金属的(如镍)。这种金属过滤器具有一层镍膜,能够经受腐蚀性气体,可有效过滤小至0。003um的颗粒,并且不会产生颗粒或释放有机沾污。

   由于现代半导体制造自动化程度的提高,生产设备成为半导体制造中最大的颗粒来源。工艺设各中各种沾污颗粒来源有剥落的副产物积累在腔壁上、自动化的硅片装卸和传送、机械操作,如旋转手柄和开关阀门、真空环境的抽取和排放以及清洗和维护过程等。硅片制造过程中,硅片从片架传入设备,在设备中完成相应工艺

后,再返回到片架中,被送交到下一工作台,这一过程可能重复上百次。当硅片经过更多的设备操作时,硅片表面的颗粒数将增加。光滑、高度抛光的表面是减少颗粒沾污最好的方法,不锈钢是广泛采用的工作台面和净化间设备材料。