片状固体源扩散的扩散源为片状固体,外形与硅圆片相同,扩散时将其与硅片间隔放置,A3242ELHLT-T并一起放入高温扩散炉中。

   (1)固态硼扩散。用于圃态硼扩散的杂质源为片状氮化硼,片状氮化硼首先经过氧化激活,使其表面氧化生成三氧化二硼,三氧化二硼与硅反应生成二氧化硅和硼原子,硼原子开始扩散。其反应方程式为

   BN+02→B203+N2

   B203+S⒈氵Si02+B

   (2)固态磷扩散。用于固态磷扩散的杂质源是偏磷酸铝和焦磷酸硅经过混合、干压和烧制而成的,这两种化合物在高温下分解,释放出五氧化二磷,五氧化二磷与硅反应生成磷原子,磷原子向晶圆内部扩散。其反应方程式为

   Aleo3、→AlPO栌△05

   siP207BN艹sio2+P205

   P205+S卜÷Sio2+P