这个行业正处于全面自动化的最后阶段，即闭环反馈系统。它包含两个方面，HY5DU561622ETP-5-C一方面是某些设备具有在线传感器来测量关键的工艺参数，通过反馈电路，设备会进行自我调节来保证工艺运行规范。对于很多设备来说，这个阶段的自动化是很难实现的。因为用于测量的传感器要工作在不利的环境内，如加热管反应炉和溅射反应室。在掩模版制造领域取得了一些进展，先进的识别系统可以对比未加工的掩模版和设计规则。

   另一方面，一些设备连接到自动目检或测量的子系统上。子系统对重要参数进行实时（正运转时）测量。并与标准对比，然后将信息反馈回来。这个系统可能会触发对于不符合规格设备的停机或自动进行工艺参数调整。闭环工艺和机器控制的发展是通向“无人无灯光”的晶圆厂目标的必由之路。