NA是衡量透镜集光能力的一个参数。它的对立参数是景深(DoF)。一组透镜NCP304LSQ30T1如果想有好的NA（更高的NA），那么它就要牺牲景深（见第8章）。遗憾的是，高级的电路往往由许多层组成，高低不平的表面（表面形貌）要求大的景深。只拥有一个透镜的步进式光刻机在其相应的景深内的晶圆上曝光是受限制的，它可能包括或不包括在晶圆表面的找平。比较新的步进式光刻机一般都具育可变数值孔径透镜，这样可以适应对景深的多样化需11。

   浸没式曝光系统

   光的折射是保持图形与掩模版或放大掩模版上的尺寸一致的另一个要素。折射使掩模版边缘光或投影透镜弯曲。弯曲是由于光的折射，它可以通过在透镜和晶片表面之间流动的纯水而被改进（见图10.1 1）。折射率为1.44的纯水有效地提高了系统的NA并允许更小的印刷图形的尺寸。尼康( Nikon)公司声称使用具有ArF“193  nm准分子激光源的浸没系统，65 nm的空中图形可被减小到40—45 nm（参见图10. 12）。