电子束光刻是一种成熟的技术，它被用来    图10.5 x射线曝光系统制作高质量的掩模版和放大掩模版。NCP303LSN42T1该系统（见图10.6）主要包括能产生小直径电子束的发射器和一个控制电子束开关的抑制器。习10.6电子束曝光曝光必须在真空中进行，以防止空气分子对电子束的干扰。电子束通过一组静电板然后到达掩模版、放大掩模版或晶圆，这组静电板的作用是调节电子束方向（在x-y方向）。它们的功能和电视机的电子束导向机理类似。为保证电子束精确到达晶片或掩模版，电子束源、相应的机械装置和要被曝光的衬底都在真空环境中。

   电子束光刻无须使用产生图形的掩模版或放大掩模版。因为不用掩模版，一些由掩模版或放大掩模版曝光引起的缺陷和错误源被去除r。电子束开关和导向由计算机来控制，计算机中存有直接来自计算机辅助设计( CAD)设计阶段的晶圆图形。电子束被偏转系统导向到需要曝光的位置上，并将电子束打开，使相应的部位光刻胶曝光．，更大面积的衬底被固定在x-y载台上，载台连同衬底在电子束下移动直到全部曝光完毕。这种对准和曝光技术称为“直接书写式”( direct writing)。