在研发X射线曝光设备的同时，X射线光刻胶的研发工作也在进行。NCP303LSN33T1这项工作很复杂，因为没有一个标准的X射线源，同时X射线光刻胶要具有对X射线的高敏感性和对刻蚀工艺有良好的阻挡作用。而光刻胶对X射线的高敏感性和对刻蚀I：艺的阻挡作用这两个参数在实际生产中很难平衡。另外一个障碍是1：1曝光，因为高能X射线会破坏用来缩影的光学系统。由于放大掩模版尺寸的限制，只有步进式光刻机才有实际使用的价值。

   X射线源包括标准X射线发射管、点源激光驱动源或同步激光发生器。点源与传统的系统相类似，每个机器有一个曝光源。同步激光发生器是一台巨大而昂贵的设备，它可以将电子在轨道中加速。在被称为同步加速器辐射( synchrotronradiation)过程中，在轨电子发出X射线。随着X射线的旋转，它们从不同的端口射出并被导向多个分立式光刻机中。