光敏性和对能量敏感的聚合物：对光刻AD8615AUJZ-REEL7胶光敏性有影响的成分是一些对光和能量敏感的特殊聚合物。聚合物是由一组大而重的分子组成的，这些分子包括碳、氢和氧。塑料就是一种典型的聚合物。

   光刻胶被设计成与紫外线和激光反应，称为光学光刻胶( optical resist)。还有其他光刻胶可以与X射线或者电子束反应。在一种负胶中，聚合物曝光后会由非聚合状态变为聚合状态~，实际上这些聚合物形成了一种相互交联的物质，它是抗刻蚀的物质（见图8. 11）。当光刻胶被加热或正常光照射也会发生聚合反应。为了防止意外曝光，负胶的生产是在黄光的条件下进行的。

   正胶的基本聚合物是苯酚一甲醛（phenol-formaldehyde）聚合物，也称为苯酚一甲醛酚醛( Novolak)树脂（见图8.12）。在光刻胶中，聚合物是相对不可溶的。在用适当的光能量曝光后，光刻胶转变成町溶状态。这种反应称为光致溶解反应( photosolubilization)。光刻胶中光致溶解部分会在显影L：艺中用溶剂去掉。

   冈8.12苯酚一甲醛酚醛树脂结构