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热稳定因子与器件总热阻

发布时间:2015/6/24 19:26:54 访问次数:713

    1)热稳定因子与器件总热阻。(结到环境的热阻)成正比,所以为了降低S就要对器件结构进行热设计, LC78815M以降低芯片热阻,采用良好的烧结工艺、焊接材料及底座材料,降低芯片与底盘间接触热阻,正确使用和合理安排散热器,以降低器件外热阻。

   2)S与偏压U。。成正比,同样功耗下使用低压大电流比高压小电流要安全得多。

   3)分析上式的分母可知,当发射极等效的串联电阻(冬。+恚)比发射结动态电阻朋q lc大很多时,s与(RE+急)成反比,这就是RB. RE的电流负反馈效应,所以RE. RB分别称为发射极、基极镇流电阻,正确设计(RE+急)值对提高功率管可靠性是很重要的。

   4)由上式分子中的第二项可见,AE。越大,则S越大,所以重掺杂引起发射区禁带变窄效应,削弱了R。和R。的镇流作用。这就是LEC(低发射区浓度)结构、多晶发射区结构以及新的异质结NPN(GaAIAs-GaAs)结构的双极型晶体管热稳定性好的原因。

   5)肖特基势垒二极管的正向压降Uf及正向电流密度变化率碧比硅二极管小,故其热稳定性相对较好。

   可得热稳定临界曲线,临界曲线以内为热稳定区。所以功率器件热电是互为反馈的,任意子器件上的电流增量必然会导致结温增加,进而引起电流高度集中,出现热斑。热斑处温度迅速增加,经毫微秒至毫秒的延迟时间迅速趋于“热奔”,直至器件烧毁。与此相反,有时热斑处温度怛定,器件可暂时在这种状态工作一段时间,称此为稳定热斑。其原因是热斑处电流高度集中,出现了一系列高电流密度效应,例如,基区扩展效应和电流集边效应,这些效应的综合结果使S有下降趋势,S≤1即为稳定热斑区。


    1)热稳定因子与器件总热阻。(结到环境的热阻)成正比,所以为了降低S就要对器件结构进行热设计, LC78815M以降低芯片热阻,采用良好的烧结工艺、焊接材料及底座材料,降低芯片与底盘间接触热阻,正确使用和合理安排散热器,以降低器件外热阻。

   2)S与偏压U。。成正比,同样功耗下使用低压大电流比高压小电流要安全得多。

   3)分析上式的分母可知,当发射极等效的串联电阻(冬。+恚)比发射结动态电阻朋q lc大很多时,s与(RE+急)成反比,这就是RB. RE的电流负反馈效应,所以RE. RB分别称为发射极、基极镇流电阻,正确设计(RE+急)值对提高功率管可靠性是很重要的。

   4)由上式分子中的第二项可见,AE。越大,则S越大,所以重掺杂引起发射区禁带变窄效应,削弱了R。和R。的镇流作用。这就是LEC(低发射区浓度)结构、多晶发射区结构以及新的异质结NPN(GaAIAs-GaAs)结构的双极型晶体管热稳定性好的原因。

   5)肖特基势垒二极管的正向压降Uf及正向电流密度变化率碧比硅二极管小,故其热稳定性相对较好。

   可得热稳定临界曲线,临界曲线以内为热稳定区。所以功率器件热电是互为反馈的,任意子器件上的电流增量必然会导致结温增加,进而引起电流高度集中,出现热斑。热斑处温度迅速增加,经毫微秒至毫秒的延迟时间迅速趋于“热奔”,直至器件烧毁。与此相反,有时热斑处温度怛定,器件可暂时在这种状态工作一段时间,称此为稳定热斑。其原因是热斑处电流高度集中,出现了一系列高电流密度效应,例如,基区扩展效应和电流集边效应,这些效应的综合结果使S有下降趋势,S≤1即为稳定热斑区。


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