光刻版和光刻胶的质量控制要求
发布时间:2012/4/28 19:29:14 访问次数:1078
光刻版和光刻胶是微电子器件的LMC555CM重要辅助材料，它们对光刻工艺的质量起着决定性的作用。在微电子器件的生产过程中，光刻版和光刻胶的质量控制不当将会使图形边缘出现锯齿和尖峰，引起结的低压击穿和金属化系统的电迁移失效。光刻胶的颗粒和光刻版的针孔会在图形上产生小岛或针孔，它们会造成漏电或使扩散结面出现尖峰引起低压击穿失效。光刻胶主要控制分辨率和颗粒度。分辨率的测量是利用分辨率测试图形在高倍显微镜下观测或用线宽测试仪来实现。颗粒度的测量是将稀释过的光刻胶用一定孑L径的过滤器过滤后用称量法进行的，或是按常规工艺在玻璃片或硅片上甩胶进行烘干，后用显微镜进行定量检测。控制标准与器件图形尺寸有关。
光刻版和光刻胶是微电子器件的LMC555CM重要辅助材料，它们对光刻工艺的质量起着决定性的作用。在微电子器件的生产过程中，光刻版和光刻胶的质量控制不当将会使图形边缘出现锯齿和尖峰，引起结的低压击穿和金属化系统的电迁移失效。光刻胶的颗粒和光刻版的针孔会在图形上产生小岛或针孔，它们会造成漏电或使扩散结面出现尖峰引起低压击穿失效。光刻胶主要控制分辨率和颗粒度。分辨率的测量是利用分辨率测试图形在高倍显微镜下观测或用线宽测试仪来实现。颗粒度的测量是将稀释过的光刻胶用一定孑L径的过滤器过滤后用称量法进行的，或是按常规工艺在玻璃片或硅片上甩胶进行烘干，后用显微镜进行定量检测。控制标准与器件图形尺寸有关。
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