白动的方式巾基于模型的方式会根据空问像的需要白动地在某些孤立的图形边上增加亚衍射散射条。JDV2S09S这种做法町以根据一系列验证过的规则(如以上提到的例子),或者纯粹根据仿真的做法。当然这种仿真的方法不是我们前面讲到的方法。这里讲到的方法是根据已知的掩膜版图形和光刻参数,如光刻机的参数(如数值孔径、照明条件、像差等)和光刻胶的参数(如光酸扩散长度、显影对比度曲线),根据给定的lE向模型即从掩膜版到硅片图形的模型,来确定最佳的掩膜版图形分布函数。这种方法义叫作逆光刻方法(Inverse I'ithography,Ⅱ');。

   这种方法的主要思想是将掩膜版均匀分成方块图像单元,由一个给定的仿真模型(如空问像+阈值模型)从-个初始函数(掩膜版的原始设计图样)来对每一个掩膜版单元进行考察,看将其设定成“0”或者“1”对一些预先定义的考察I艺好坏的参量,或者代价函数有没有变化。如果设定成“0”对降低代价函数有利,那么就算是原先在这个单元上是“1”,或者不透明,经过这一轮逆光刻运算,它会被改成“透明”。经过这样的反复运算,直到最后结果不再明显变化为止。那么,这样的掩膜版函数被认定为优化了的函数。常见的代价函数可以有以下几种:

   (1)与设计图形的差异。

   (2)与设计图形在给定的离焦后的差异。

   (3)与设计图形在曝光能量偏移给定量后的差异。

   (4)与设计图形在掩膜版存在给定误差后的差异。

   (1)它不需要基于先前的对使用照明条件、掩膜版图形优化的经验而制定的规则。它只需要用户给出所有关键地方的图形尺寸规格,以定义代价函数。

   (2)它不需要针对亚衍射散射条使用的规则,相反地,它可以白动产生亚衍射散射条,闪为整个掩膜版的每一个图形单元都被放在了优化之列。如果需要,亚衍射散射条会被白动合成。

   (3)这种方法也可以用于对照明条件的初始值给出优化的照明条件。其实,它也是一种照明一掩膜优化。