批浸泡式清洗机
发布时间:2017/11/7 22:06:27 访问次数:951
批浸泡式清洗机(wet bench)是最早使用并被广泛普及的,同时它也随着半导体的发展得到不断的提升和完善。有代表性的厂商是DNS/FC系列,SES/BW系列等。 W1N5817清洗机处理槽分布实例如表9.5所示。如果制程顺序是DHF→DI→sPM→DI→SC1冫DI→IPA,那么晶片从槽1(Tank1)开始,依次经过表9,5中的每个槽。这个制程功能为:首先是膜层刻蚀或干刻蚀后氧化硅外壳清除,接着是光阻或灰化残余物去除,最后是颗粒去除和晶片干燥。更多了解可回顾9.6节和9,7节。这里重点讲水洗(()F、HQDR)和Marangoni干燥。
批浸泡式清洗机(wet bench)是最早使用并被广泛普及的,同时它也随着半导体的发展得到不断的提升和完善。有代表性的厂商是DNS/FC系列,SES/BW系列等。 W1N5817清洗机处理槽分布实例如表9.5所示。如果制程顺序是DHF→DI→sPM→DI→SC1冫DI→IPA,那么晶片从槽1(Tank1)开始,依次经过表9,5中的每个槽。这个制程功能为:首先是膜层刻蚀或干刻蚀后氧化硅外壳清除,接着是光阻或灰化残余物去除,最后是颗粒去除和晶片干燥。更多了解可回顾9.6节和9,7节。这里重点讲水洗(()F、HQDR)和Marangoni干燥。
相关技术资料- 11-7批浸泡式清洗机
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