前面讲过,光源一般有汞(mercury)灯、准分子(excimer)激光、激光激励的放电灯(如极紫外的二氧化碳激光激励的锡灯)等类型。光源分系统的任务是将发射角度整合成为科勒照明形式,并且使得部分相干性可以由使用者在一定范围内调节。 VA05H-001-471如阿斯麦公司的193nm NXT1950i浸没式光刻机的部分相干性对传统照明条件可以做到0.12~O.98可调。

   不仅如此,对于使用激光作为光源的系统,还要消除激光的较κ的空间和时间的相十性,以去除各种原因造成的散射光之间十涉,又叫做散斑(speckle),提高照明均匀性。好在准分子激光的腔体中的Q值较低(高增益带来的效果),激光输出的时间相干长度较短,模数较多,其造成的相干性比一般的激光器(如气体激光器)要低很多。在193nm光刻机当中还需要引入偏振照明的装置。前面已经讲到,如果使用横电波偏振态,系统的对比度不会囚为偏振而受到影响。在照明系统中,需要通过使用起偏器和偏振态转换器来实现多种偏振态。一般是通过使用1/4相位延迟波片,叉叫1/1波片(quarter wave phase retardcr plate或quarter wave plate)与偏振片结合将已有的偏振态旋转成任意的偏振状态。