HDP-CVD中的再沉积问题
发布时间:2017/10/18 21:13:26 访问次数:1150
另外,在HDP CVD中的物理轰击遵循碰撞中的动量守恒原理,因此被溅射出的物质存在一定角度。NDB6060L随着沟槽开口尺寸变小,当轰击离子质量较大时,被轰击掉的部分会有足够的能量重新沉积到沟槽侧壁另一侧某一角度处,使得这些地方薄膜堆积,过多的堆积将会造成沟槽顶部在没有完全填充前过快封口(见图4,17)。随着器件尺寸减小,填充能力的挑战越来越大。为了减少物理轰击造成的再沉积,HDP中的轰击气体主要经历了Ar→O2→He→H2的变化,通过降低轰击原子的质量来改善再沉积引起的填充问题。但是仅仅通过轰击物质的改变,沟槽填充能力的改善是有限的。
另外,在HDP CVD中的物理轰击遵循碰撞中的动量守恒原理,因此被溅射出的物质存在一定角度。NDB6060L随着沟槽开口尺寸变小,当轰击离子质量较大时,被轰击掉的部分会有足够的能量重新沉积到沟槽侧壁另一侧某一角度处,使得这些地方薄膜堆积,过多的堆积将会造成沟槽顶部在没有完全填充前过快封口(见图4,17)。随着器件尺寸减小,填充能力的挑战越来越大。为了减少物理轰击造成的再沉积,HDP中的轰击气体主要经历了Ar→O2→He→H2的变化,通过降低轰击原子的质量来改善再沉积引起的填充问题。但是仅仅通过轰击物质的改变,沟槽填充能力的改善是有限的。
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