硅片平台的定标工作的目标是在硅片平台运动的范围内,保证以下的精度:VA033PJ-006NQA

   (1)在平移(X,y)日寸没有转动(R/)或者倾斜(Rx,RΥ);

   (2)在含有倾斜时(Rx,RY),对准传感器(alignmcnt sensor)在硅片表面对准的位置不变;

   (3)在含有倾斜时(Rx,RY),找平传感器(leveling sensor)在硅片表面对准的位置不变;

   (4)对反射镜的平整度(mirror natness)定标,保证水平移动时,在¨个方向移动时没有另外一个方向的移动;

   (5)确定硅片平台的最佳焦距;

   (6)如果是双平台的光刻机,需要对两个平台之间的套刻参数和精度做匹配;

   (7)平台上测量传感器本身位置和倾斜角的定标。

   对于镜头的像差,高级的光刻机一般都有自带的测量像差的传感器。这种传感器一般是通过扫描测量空间像在某些特定掩膜版平面上图形的表现来计算像差的。还有的传感器将光瞳上的光强分布和位相通过光刻机的光瞳下面(离硅片靠近的镜头部分)的镜头部分投影到平台L的成像的干涉型传感器上,以直接测量在光瞳处的像差。通过镜头模型(lensmodel),将测得的像差函数经过解算,得出镜头内部可移动的镜片(为z方向叮移动和Xy方向可移动)的最佳调整位置,以最大限度地优化镜头的剩余像差。