氧化铁版在使用上还有以下优点:

   ①在观察光源波长下是透明的,而在曝光光源波长下是不透明的。由于这 S-24c01BFJ-TB一特性,掩膜对可见光透明而阻挡紫外线通过,囚而允许在光刻时通过掩膜直接观察片子上的图形。

   ②具有较低的反射率,在接触曝光时,由于掩膜与片子之间的多次反射从而降低了铬掩膜的有效分辨率,由于氧化铁掩膜的反射率低,与正性胶配合能获得0.5~1um的条宽。因此制得的氧化铁掩模板具有较高的分辨率。

   ③氧化铁版由于是吸收(而不是反射)不需要的光,因而克服了光晕效应,加强了对反射性衬底的对比度,有利于精细线条光刻。

   氧化铁结构致密且无定型。针孔少。

   ⑤氧化铁是比较耐磨的掩膜材料。

   ⑥复印腐蚀特性比较好,在一定程度上减少了掩膜缺陷。

   氧化铁版的制备方法主要有二种:化学气相沉积(CⅥD法、涂敷法及反应溅射法。目前来看聚乙烯二茂铁材料制各的氧化铁彩色版最有前途,它为用C~AI,及数控电子束扫描进行白动化制版的实现提供了切实可行的途径。