彩色版是一种新型的透明或半透明掩膜,因有颜色,故俗称彩色版,它可克服超微粒干版缺陷多、ACT45B-510-2P-TL003耐磨性差及铬版针孔多、易反光、不易对准等缺点。

   彩色版的最主要特点是对曝光光源波长(紫外线40o~~900nm)不透明,而对于观察光源波长(400~800nm)透明。也就是说这种掩膜对可见光波吸收很小,能透过,而对紫外线吸收较强,不能透过。因此使用这种掩膜制成的掩模板,在可见光下是透明的,故光刻图形易于对准,而用紫外线曝光时这种掩膜叉是不透明的,因此它又能起掩膜的作用。在大面积集成电路的光刻中,由于集成度高,图形线条细,要求光刻精度高,用金属铬版是较难对准的(因为铬版反射光能力强),而用彩色版光刻大面积集成电路时,因其透明所以能对器件图形的最关键部位进行直接观察,使图形对准较为容易。彩色版除了光刻图形易于对准外,还具有针孔小(小于0.5cm2)、耐磨性较强(因为玻璃与氧化铁等黏附能力强)的优点,在分辨率方面也不亚于金属铬版和超微粒干版。氧化铁掩膜能做出1um左右的图形。此外,由于彩色版的掩蔽作用是吸收不需要的光而不是反射,因此光学效应比铬版减小了,从而提高了反差。

   彩色版种类很多,有氧化铁版、硅版、氧化铬版、氧化亚铜版等,目前应用较广的是氧化铁彩色版。虽然常常把氧化铁版的材料称为氧化铁(Fe2o3),确切地讲其组成是复杂的,结构是多样的,是数种铁的氧化物的混合物,通常用氧化铁作为它们的代表。氧化铁具备作为选择透明掩膜材料的所有要求的最佳的化学和物理特性。据报道,其在紫外区(3oO~400nm)的透射率小于1%,在可见光区(400~800nm)的透射率大于30%。