冷蒸是指衬底不加热的蒸镀方法
发布时间:2017/5/21 18:31:03 访问次数:977
衬底情况是指进行蒸镀之前,必须对衬底硅片已进行完的△艺操作有所了解,掌握衬底耐温情况,OPA227P从而确定采取冷蒸还是热蒸。冷蒸是指衬底不加热的蒸镀方法,相应地,热蒸是指衬底加热的蒸镀方法。进行热蒸时,衬底加热温度不能超过其所能耐受温度。
例如,以光刻剥离技术制备金属铂的薄膜图形,蒸镀前在衬底表面已有了光刻胶图形,蒸镀铂薄膜时,通常采取冷蒸方法,希望所蒸 镀的铂薄膜在光刻胶的台阶处断裂,以利于光刻胶剥离液从断裂口 浸人溶解胶膜,从而剥离去掉光刻胶顶的铂薄膜。图⒏16所示是光
刻剥离铂示意图。因为冷蒸方法薄膜台阶覆盖性不好而适于剥离I (b)光刻胶溶解剥离艺,而且对衬底加热会增加胶中残余溶剂的进一步挥发,影响真空室 图⒏16 光刻剥离铂示意图的真空度,且过分干燥的胶膜也难以溶解剥离。
衬底情况是指进行蒸镀之前,必须对衬底硅片已进行完的△艺操作有所了解,掌握衬底耐温情况,OPA227P从而确定采取冷蒸还是热蒸。冷蒸是指衬底不加热的蒸镀方法,相应地,热蒸是指衬底加热的蒸镀方法。进行热蒸时,衬底加热温度不能超过其所能耐受温度。
例如,以光刻剥离技术制备金属铂的薄膜图形,蒸镀前在衬底表面已有了光刻胶图形,蒸镀铂薄膜时,通常采取冷蒸方法,希望所蒸 镀的铂薄膜在光刻胶的台阶处断裂,以利于光刻胶剥离液从断裂口 浸人溶解胶膜,从而剥离去掉光刻胶顶的铂薄膜。图⒏16所示是光
刻剥离铂示意图。因为冷蒸方法薄膜台阶覆盖性不好而适于剥离I (b)光刻胶溶解剥离艺,而且对衬底加热会增加胶中残余溶剂的进一步挥发,影响真空室 图⒏16 光刻剥离铂示意图的真空度,且过分干燥的胶膜也难以溶解剥离。
上一篇:蒸镀工艺
上一篇:设备条件是了解所用蒸镀设各的情况
热门点击
- 恒定表面源扩散
- 以TEOs为硅源淀积sio2
- 蒙气差
- 气象卫星有效载荷及其工作原理
- 折射率不可能为负值
- 反射式光学系统
- 光在同种介质中的传播――直线传播和独立传播定
- 电子束光刻胶
- 光刻工艺对掩模板的质量要求归纳
- 扩散工艺质量与检测
推荐技术资料
- 业余条件下PCM2702
- PGM2702采用SSOP28封装,引脚小而密,EP3... [详细]