到达角是指反应剂能够从各方向到达表面的某一点,这全部方向角就是该点的到达角。 ON9658给出了几个关键点的二维空间的到达角,A点是180°,B点是270°,C点是90°。至刂达角越大,能够到达该点的反应剂分子(或原子团)数量就越多,该点淀积的薄膜就越厚。图75(bl非保形覆盖中的B点淀积的薄膜就比C点厚,这两点二维空间的到达角之比为3:1。

   边界层厚度主要受气体压力和气流状态(或流速)等因素影响。常压淀积,在气体为层流状态时,同一衬底表面的孔洞或沟槽内部气体边界层比平坦部位要厚,深宽比越大的孔洞或沟槽内部的边界层就越厚。而气体分子常压时的平均自由程很小(约为10δcm),分子之间的相互碰撞使得它们的速度矢量完全随机化。所以,在孔洞或沟槽内部,特别是底部角落位置的表面反应剂气体浓度较低,该点淀积的薄膜就薄,如图⒎5(b)非保形覆盖中的C点。

    低压淀积,气体仍为层流状态,边界层比常压时要厚,而当反应器内真空度足够高,反应剂原子或分子的平均自由程与孔洞或沟槽的深度相当时,反应剂可以直接穿越边界层人射到孔洞或沟槽底,这时影响表面反应剂浓度的除了与同一衬底不同位置的到达角有关外,还与遮蔽效应有关。由于气体分子自由程较长,分子之间碰撞概率降低,使得气体分子的速度矢量不再随机化,而遮蔽效应(s腕do- 诵ng)指的就是衬底表面上的图形对反应剂气体分子直线运动的阻挡作用。如图75(b)非保形覆盖中的D点,由于遮蔽效应能直接人射到D点的入射角为汐,远小于平面部位(如A点的入射角是180°)。深宽比越大,孔洞或沟槽内部D点的人射角汐越小,遮蔽效应就越严重。