集成电路所用材料必须“超纯”,这和工艺环境要求“超净”相一致。超纯材NANDA8R3N0AZBB5E料是指半导体材料(不包括专门掺入的杂质),其他功能性电子材料及工艺消耗品等都必须为高纯度材料。

   日前,集成电路I艺用半导体硅、锗材料的纯度已达99.999999999%以~L,即11个9,记为11N。功能性电子材料(如Al、Au等金属化材料)、掺杂用气体、外延气体等必须是集成电路用高纯度材料。工艺材料(如化学试剂,也是集成电路专用级高纯试剂)杂质含量已低于0.1ppb①,而石英杯、石英舟等工艺器皿用的石英材料的杂质含量也低于100p凹ρ。集成电路工艺的发展对材料纯度要求不断提高,一般来说,不同集成电路芯片对材料纯度要求不同,芯片特征尺寸越小,要求材料纯度也就越高。水也是用量很大的一种工艺材料,既用于硅片、电子材料及工艺器皿的清洗,也用于配制化学品,在氧化工艺中也可作为硅片氧化的原材料。芯片工艺用水必须是超纯水,在微电子生产企业都有超纯水生产车间,水质的好坏直接影响到芯片质量,水质不达标可能导致不能生产出合格的产品。微电子工业用超纯水一般用电阻率来表征水的纯度,超大规模集成电路用超纯水的电阻率在18MΩ・cm以上,普通大功率晶体管超纯水的电阻率一般在10MΩ・cm以上。