外延材料的测试分析
发布时间:2016/11/5 19:10:07 访问次数:1281
LED发光用氮化镓基外延片包括LED全结构外延片,和按导电类型分为n型和p型两种类型的单层氮化镓外延片。 JANTX2N2222A氮化镓基外延片首先需要进行外形尺寸、外观的检验,包括:
(1)外延层厚度。一般利用多光束干涉原理,在外延片的生长过程中进行膜厚的在线监测。一定波长的光从很薄的外延层的不同表面反射回来,存在光程差,会发生相长或相消干涉,可用于探测薄膜厚度,监测外延层的生长速率。对外延层厚度的在线监测有助于实时调整控制条件,提高外延片的成品率。
(2)径向厚度不均匀性。要求沿定位径向厚度不均匀性≤±3%。
(3)表面形貌。六角缺陷,细凹坑,细痕,白点等数量及尺寸;如¢50.8rym夕卜延片指标为六角缺陷小于300um,每片少于⒛个;细凹坑小于⒛um,每片少于100个;细痕小于511nll,每片少于3个;白点小于3mm,每片少于20个。
(4)表面粗糙度。平面外延片表面粗糙度≤0.2nm。然后对外延片的波长范围、均匀性(要求≤8nm)和电压进行测量,电压偏差很大,
波长偏长或偏短的样品均为不合格产品。最后需要检测外延片的晶体质量,包括双晶半宽和位错密度及位置分布,合格的产品要求位错密度≤1×1010个/cm2(¢50.811nll外延片)。
LED发光用氮化镓基外延片包括LED全结构外延片,和按导电类型分为n型和p型两种类型的单层氮化镓外延片。 JANTX2N2222A氮化镓基外延片首先需要进行外形尺寸、外观的检验,包括:
(1)外延层厚度。一般利用多光束干涉原理,在外延片的生长过程中进行膜厚的在线监测。一定波长的光从很薄的外延层的不同表面反射回来,存在光程差,会发生相长或相消干涉,可用于探测薄膜厚度,监测外延层的生长速率。对外延层厚度的在线监测有助于实时调整控制条件,提高外延片的成品率。
(2)径向厚度不均匀性。要求沿定位径向厚度不均匀性≤±3%。
(3)表面形貌。六角缺陷,细凹坑,细痕,白点等数量及尺寸;如¢50.8rym夕卜延片指标为六角缺陷小于300um,每片少于⒛个;细凹坑小于⒛um,每片少于100个;细痕小于511nll,每片少于3个;白点小于3mm,每片少于20个。
(4)表面粗糙度。平面外延片表面粗糙度≤0.2nm。然后对外延片的波长范围、均匀性(要求≤8nm)和电压进行测量,电压偏差很大,
波长偏长或偏短的样品均为不合格产品。最后需要检测外延片的晶体质量,包括双晶半宽和位错密度及位置分布,合格的产品要求位错密度≤1×1010个/cm2(¢50.811nll外延片)。
上一篇:MOCVD设备