维护晶圆洁净，它是一DL0165R个微小环境并且与工艺设备匹配。四探针测试仪（four-point probe）：用来测量晶圆表面电阻的电测没备反应炉( furnace)：具备电阻加热元和温度控制器的工艺设备。在半导体1-艺中用来提供个受控的恒温环境。

熔断丝( fuse)：一种电路元件，通过熔断使某个存储单元或逻辑门被编程。砷化镓( GaAs)：半导体材料中最常见的化合物。优点是町以生产比在硅衬底卜的器件速度更快的器件，栅( gate)：Lj源极、漏极共同构成单极型或场效应晶体管（FET或MOS）。门阵列( gate array)：集成电路类型，通过门的相互连接提供所需的功能。栅氧化膜( gate oxi)：位于MOS晶体管栅极的氧化物薄膜，引起电荷效应，并在源和漏之间形成沟道。

   锗( germanium)：半导体材料，用于生产晶体二极管及早期的晶体管。高效过滤器( HEPA filter)：一种由脆性纤维制成的折叠形的过滤器。在操作员感到舒适的低空气流速时町提供较大面积的过滤。其过滤效率可达99. 99%。六甲基乙硅烷( HMDS)：主要用于提高光刻胶的附着性。高压氧化( high-pressure  oxidation)：高气压（10~ 20个大气压）下的氧化过程以减少对热量和时间的要求。这种工艺的反应室必须用不锈钢制成以安全地保持压力，空穴(hole)：(1)半导体晶体中价带电子的缺失。空穴的运动相当于正电荷的运动。(2)由光刻掩膜工艺在表面层形成的“开孔”=

混合集成电路( hybrid．ntegrated circuit)：将一种或多种半导体器件与一个薄膜集成电路制作在同一衬底（通常是陶瓷材料）上的电路结构。