淀积依赖于待掺杂物质蒸气原子在炉管中的浓度。蒸气产生于炉管设备上的杂质源箱内的杂质源，AD6630AR由携带气体带入炉管中。杂质源为液态、固态或气态。多种元素有超过一种形态的杂质源可以使用（见图11. 13）”。通用的另一种固态源是平面源“晶圆”。它们是与晶圆一样大小的一个块。硼块是含硼和氮的化合物( BN)，也有町用做砷和磷掺杂的杂质块。

   杂质块堆放于淀积舟上，每两片器件晶圆放一片杂质块。这种排列方式被称为近邻固态源( solid neighbor source)。在炉管中，杂质从杂质块中扩散出，通过很短的距离到达并扩散到晶圆表面内部。

   第三种固态源是直接旋转涂敷在晶圆表面的。源是粉末状氧化物（同远程源相同）与溶剂的混合物。留在晶圆表面的就是一层掺杂的氧化物。淀积炉管的热使杂质从氧化物中扩散到晶圆内部。