淀积（也称为predeposition，dep或predep）在炉管中进行，晶圆位于炉管的恒温区中。 AD6620AS掺杂源位于杂质源箱中，它们的蒸气以所需的浓度被送到炉管中（见图11.9）。使用的掺杂剂有液态源、气态源和固态源。

   在炉管中，杂质原子扩散到裸露的晶圆中。在晶圆内部，掺杂原子以两种不同的机制运动：空位模式和间隙模式。在空位模式中[见图11. lO(a)]，掺杂原子通过占据晶格空位来运动，称为填空杂质( vacancy)。第二种模式[见图11. 10( b)]依赖于杂质的间隙运动i1。在这种模式中，掺杂原子在晶格间（即间隙位置）运动。

   图11. 10扩散模式。(a)窄位模式；(b)间隙模式