形成工艺设计
发布时间:2012/5/3 19:20:37 访问次数:578
(1)形成工艺的选择
要获得电容器高可靠性、低漏电流，务必要求阳SH7021极钽块的氧化膜质量要好。为了获得高质量的氧化膜，可以在其余条件允许的情况下，提高钽芯的形成电压；另外钽块在形成过程中发热量较大，易使氧化膜发生晶化，可采取高形成电压、低形成电流密度的方法，使其形成时发热小，形成的氧化膜质量好，从而杜绝晶化现象的发生。
(2)形成电解液的选择
形成电解液在电场作用下在多孑L钽芯表面生成Ta2 0s介质层，生成Taz Os膜时要产生热量，这样就要求形成电解液能够提供足够的氧、有较高的闪火电压、较高的沸点和较强的渗透能力。
(3)形成电流密度的选择
电容器钽芯的Ta20。介质层的生长速度，取决于钽芯形成时的形成电流密度。形成电流密度大，形成Ta2 0s介质的速度快，生产效率高，但是形成过程发热量大，容易使钽芯的Ta2 0s介质发生晶化。根据具体的阳极钽芯来确定钽芯的形成电流密度就非常重要，较低的比容钽粉成型的钽芯，可以用较高的形成电流密度来形成；较高比容钽粉成型的钽芯，采用较低的形成电流密度，形成时发热量少，不易发生Ta2 0s介质晶化。
(4)形成电压的设计
形成电压的选择关系到产品的可靠性和漏电流等特性，形成电压的选择主要考虑下列因素：
①下道工序的影响。由于热分解被覆Mn02电解质层时要破坏氧化膜，而在修补氧化膜的中间形成时，修补电压只能低于原来的形成电压。所以，形成电压应适当提高。
②提高形成电压与额定电压的倍数，有剩于减少产品的漏电流及其分散性。
③形成电压必须低于形成液的闪火电压。
被膜工艺设计
被膜是使硝酸锰溶液很好地浸透到具有细孔的钽芯子内部并被覆整个氧化膜的工序，在被膜过程中应注意以下两个因素：
(1)被膜温度
将形成好的阳极钽芯子浸入硝酸锰溶液中，然后在20～130℃下烘干，再在250～330℃条件下进行热分解，一般规定分解时间为10～30min，这种条件下形成p型二氧化锰。这种二氧化锰导电性好，满足电容器的各项性能指标要求。
(2)被膜次数
热分解次数也是影响钽电容器性能的关键因素之一，它对产品的漏电流、损耗角正切值和电容量的稳定性都起着决定性的作用。根据目前的生产情况，结合不同比容钽粉的要求，被膜工艺重复几次到十几次，当阳极芯子表面的Mn02层达到规定的厚度要求时，被膜即结束。
要获得电容器高可靠性、低漏电流，务必要求阳SH7021极钽块的氧化膜质量要好。为了获得高质量的氧化膜，可以在其余条件允许的情况下，提高钽芯的形成电压；另外钽块在形成过程中发热量较大，易使氧化膜发生晶化，可采取高形成电压、低形成电流密度的方法，使其形成时发热小，形成的氧化膜质量好，从而杜绝晶化现象的发生。
(2)形成电解液的选择
形成电解液在电场作用下在多孑L钽芯表面生成Ta2 0s介质层，生成Taz Os膜时要产生热量，这样就要求形成电解液能够提供足够的氧、有较高的闪火电压、较高的沸点和较强的渗透能力。
(3)形成电流密度的选择
电容器钽芯的Ta20。介质层的生长速度，取决于钽芯形成时的形成电流密度。形成电流密度大，形成Ta2 0s介质的速度快，生产效率高，但是形成过程发热量大，容易使钽芯的Ta2 0s介质发生晶化。根据具体的阳极钽芯来确定钽芯的形成电流密度就非常重要，较低的比容钽粉成型的钽芯，可以用较高的形成电流密度来形成；较高比容钽粉成型的钽芯，采用较低的形成电流密度，形成时发热量少，不易发生Ta2 0s介质晶化。
(4)形成电压的设计
形成电压的选择关系到产品的可靠性和漏电流等特性，形成电压的选择主要考虑下列因素：
①下道工序的影响。由于热分解被覆Mn02电解质层时要破坏氧化膜，而在修补氧化膜的中间形成时，修补电压只能低于原来的形成电压。所以，形成电压应适当提高。
②提高形成电压与额定电压的倍数，有剩于减少产品的漏电流及其分散性。
③形成电压必须低于形成液的闪火电压。
被膜工艺设计
被膜是使硝酸锰溶液很好地浸透到具有细孔的钽芯子内部并被覆整个氧化膜的工序，在被膜过程中应注意以下两个因素：
(1)被膜温度
将形成好的阳极钽芯子浸入硝酸锰溶液中，然后在20～130℃下烘干，再在250～330℃条件下进行热分解，一般规定分解时间为10～30min，这种条件下形成p型二氧化锰。这种二氧化锰导电性好，满足电容器的各项性能指标要求。
(2)被膜次数
热分解次数也是影响钽电容器性能的关键因素之一，它对产品的漏电流、损耗角正切值和电容量的稳定性都起着决定性的作用。根据目前的生产情况，结合不同比容钽粉的要求，被膜工艺重复几次到十几次，当阳极芯子表面的Mn02层达到规定的厚度要求时，被膜即结束。
(1)形成工艺的选择
要获得电容器高可靠性、低漏电流，务必要求阳SH7021极钽块的氧化膜质量要好。为了获得高质量的氧化膜，可以在其余条件允许的情况下，提高钽芯的形成电压；另外钽块在形成过程中发热量较大，易使氧化膜发生晶化，可采取高形成电压、低形成电流密度的方法，使其形成时发热小，形成的氧化膜质量好，从而杜绝晶化现象的发生。
(2)形成电解液的选择
形成电解液在电场作用下在多孑L钽芯表面生成Ta2 0s介质层，生成Taz Os膜时要产生热量，这样就要求形成电解液能够提供足够的氧、有较高的闪火电压、较高的沸点和较强的渗透能力。
(3)形成电流密度的选择
电容器钽芯的Ta20。介质层的生长速度，取决于钽芯形成时的形成电流密度。形成电流密度大，形成Ta2 0s介质的速度快，生产效率高，但是形成过程发热量大，容易使钽芯的Ta2 0s介质发生晶化。根据具体的阳极钽芯来确定钽芯的形成电流密度就非常重要，较低的比容钽粉成型的钽芯，可以用较高的形成电流密度来形成；较高比容钽粉成型的钽芯，采用较低的形成电流密度，形成时发热量少，不易发生Ta2 0s介质晶化。
(4)形成电压的设计
形成电压的选择关系到产品的可靠性和漏电流等特性，形成电压的选择主要考虑下列因素：
①下道工序的影响。由于热分解被覆Mn02电解质层时要破坏氧化膜，而在修补氧化膜的中间形成时，修补电压只能低于原来的形成电压。所以，形成电压应适当提高。
②提高形成电压与额定电压的倍数，有剩于减少产品的漏电流及其分散性。
③形成电压必须低于形成液的闪火电压。
被膜工艺设计
被膜是使硝酸锰溶液很好地浸透到具有细孔的钽芯子内部并被覆整个氧化膜的工序，在被膜过程中应注意以下两个因素：
(1)被膜温度
将形成好的阳极钽芯子浸入硝酸锰溶液中，然后在20～130℃下烘干，再在250～330℃条件下进行热分解，一般规定分解时间为10～30min，这种条件下形成p型二氧化锰。这种二氧化锰导电性好，满足电容器的各项性能指标要求。
(2)被膜次数
热分解次数也是影响钽电容器性能的关键因素之一，它对产品的漏电流、损耗角正切值和电容量的稳定性都起着决定性的作用。根据目前的生产情况，结合不同比容钽粉的要求，被膜工艺重复几次到十几次，当阳极芯子表面的Mn02层达到规定的厚度要求时，被膜即结束。
要获得电容器高可靠性、低漏电流，务必要求阳SH7021极钽块的氧化膜质量要好。为了获得高质量的氧化膜，可以在其余条件允许的情况下，提高钽芯的形成电压；另外钽块在形成过程中发热量较大，易使氧化膜发生晶化，可采取高形成电压、低形成电流密度的方法，使其形成时发热小，形成的氧化膜质量好，从而杜绝晶化现象的发生。
(2)形成电解液的选择
形成电解液在电场作用下在多孑L钽芯表面生成Ta2 0s介质层，生成Taz Os膜时要产生热量，这样就要求形成电解液能够提供足够的氧、有较高的闪火电压、较高的沸点和较强的渗透能力。
(3)形成电流密度的选择
电容器钽芯的Ta20。介质层的生长速度，取决于钽芯形成时的形成电流密度。形成电流密度大，形成Ta2 0s介质的速度快，生产效率高，但是形成过程发热量大，容易使钽芯的Ta2 0s介质发生晶化。根据具体的阳极钽芯来确定钽芯的形成电流密度就非常重要，较低的比容钽粉成型的钽芯，可以用较高的形成电流密度来形成；较高比容钽粉成型的钽芯，采用较低的形成电流密度，形成时发热量少，不易发生Ta2 0s介质晶化。
(4)形成电压的设计
形成电压的选择关系到产品的可靠性和漏电流等特性，形成电压的选择主要考虑下列因素：
①下道工序的影响。由于热分解被覆Mn02电解质层时要破坏氧化膜，而在修补氧化膜的中间形成时，修补电压只能低于原来的形成电压。所以，形成电压应适当提高。
②提高形成电压与额定电压的倍数，有剩于减少产品的漏电流及其分散性。
③形成电压必须低于形成液的闪火电压。
被膜工艺设计
被膜是使硝酸锰溶液很好地浸透到具有细孔的钽芯子内部并被覆整个氧化膜的工序，在被膜过程中应注意以下两个因素：
(1)被膜温度
将形成好的阳极钽芯子浸入硝酸锰溶液中，然后在20～130℃下烘干，再在250～330℃条件下进行热分解，一般规定分解时间为10～30min，这种条件下形成p型二氧化锰。这种二氧化锰导电性好，满足电容器的各项性能指标要求。
(2)被膜次数
热分解次数也是影响钽电容器性能的关键因素之一，它对产品的漏电流、损耗角正切值和电容量的稳定性都起着决定性的作用。根据目前的生产情况，结合不同比容钽粉的要求，被膜工艺重复几次到十几次，当阳极芯子表面的Mn02层达到规定的厚度要求时，被膜即结束。
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