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扩散和离子注入

发布时间:2008/6/5 0:00:00 访问次数:428

离散二极管和晶体管能在晶体生长的时候在硅ingot里形成结而生产出来。假设硅ingot开始的时候是p型晶体。经过短暂的生长后,通过加入控制量的磷melt被反向掺杂。继续的晶体生长会产生一个嵌入ingotpn结。连续的反掺杂能在晶体里产生多个结,这样就能生产grown-junction晶体管。集成电路不能生长出来,因为没办法在不同的wafer区生产不同的掺杂区。即使生产简单的grown-junction晶体管都很困难,因为grown junction的厚度和planarity很难控制。每个反掺杂也提升了总的掺杂浓度。硅的一些特性(比如少数载流子lifetime)和总掺杂浓度有关,而不是超过另一种杂质的过剩量。因为反复的counterdoping降低了硅的电特性。

历史上,因为更好的planar工艺而很快抛弃了grown junction工艺。这个工艺用来生产现代的集成电路和大多数的现代离散器件。图2.16

离散二极管和晶体管能在晶体生长的时候在硅ingot里形成结而生产出来。假设硅ingot开始的时候是p型晶体。经过短暂的生长后,通过加入控制量的磷melt被反向掺杂。继续的晶体生长会产生一个嵌入ingotpn结。连续的反掺杂能在晶体里产生多个结,这样就能生产grown-junction晶体管。集成电路不能生长出来,因为没办法在不同的wafer区生产不同的掺杂区。即使生产简单的grown-junction晶体管都很困难,因为grown junction的厚度和planarity很难控制。每个反掺杂也提升了总的掺杂浓度。硅的一些特性(比如少数载流子lifetime)和总掺杂浓度有关,而不是超过另一种杂质的过剩量。因为反复的counterdoping降低了硅的电特性。

历史上,因为更好的planar工艺而很快抛弃了grown junction工艺。这个工艺用来生产现代的集成电路和大多数的现代离散器件。图2.16

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