1 清洗液中的金属附着现象在碱性清洗液中易发生，在酸性溶液中不易发生，并具有较强的去除晶片表面金属的能力，但经sc-1洗后虽能去除cu等金属，而晶片表面形成的自然氧化膜的附着（特别是al）问题还未解决。
2 硅片表面经sc-2液洗后，表面si大部分以 o 键为终端结构，形成一层自然氧化膜，呈亲水性。
3 由于晶片表面的sio2和si不能被腐蚀，因此不能达到去除粒子的效果。
a.实验表明：
　　据报道将经过sc-2液，洗后的硅片分别放到添加cu

1 清洗液中的金属附着现象在碱性清洗液中易发生，在酸性溶液中不易发生，并具有较强的去除晶片表面金属的能力，但经sc-1洗后虽能去除cu等金属，而晶片表面形成的自然氧化膜的附着（特别是al）问题还未解决。
2 硅片表面经sc-2液洗后，表面si大部分以 o 键为终端结构，形成一层自然氧化膜，呈亲水性。
3 由于晶片表面的sio2和si不能被腐蚀，因此不能达到去除粒子的效果。
a.实验表明：
　　据报道将经过sc-2液，洗后的硅片分别放到添加cu