污染引起的问题总结
发布时间:2008/6/5 0:00:00 访问次数:337
这四种污染物(1. 微粒 2. 金属离子 3. 化学物质 4. 细菌 )在以下三个特定的功能领域对工艺过程和器件产生影响。它们是:
1. 器件工艺良品率
2. 器件性能
3. 器件可靠性
器件工艺良品率
在一个污染环境中制成的器件会引起多种问题。污染会改变器件的尺寸,改变表面的洁净度,并且/或者造成有凹痕的表面。在晶片生产的过程中,有一系列的质量检验和检测,他们是为检测出被污染的晶片而特殊设计的。高度的污染使得仅有少量的晶片能够完成全工艺过程,从而导致成本升高。
1. 器件工艺良品率
2. 器件性能
3. 器件可靠性
器件工艺良品率
在一个污染环境中制成的器件会引起多种问题。污染会改变器件的尺寸,改变表面的洁净度,并且/或者造成有凹痕的表面。在晶片生产的过程中,有一系列的质量检验和检测,他们是为检测出被污染的晶片而特殊设计的。高度的污染使得仅有少量的晶片能够完成全工艺过程,从而导致成本升高。
这四种污染物(1. 微粒 2. 金属离子 3. 化学物质 4. 细菌 )在以下三个特定的功能领域对工艺过程和器件产生影响。它们是:
1. 器件工艺良品率
2. 器件性能
3. 器件可靠性
器件工艺良品率
在一个污染环境中制成的器件会引起多种问题。污染会改变器件的尺寸,改变表面的洁净度,并且/或者造成有凹痕的表面。在晶片生产的过程中,有一系列的质量检验和检测,他们是为检测出被污染的晶片而特殊设计的。高度的污染使得仅有少量的晶片能够完成全工艺过程,从而导致成本升高。
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1. 器件工艺良品率
2. 器件性能
3. 器件可靠性
器件工艺良品率
在一个污染环境中制成的器件会引起多种问题。污染会改变器件的尺寸,改变表面的洁净度,并且/或者造成有凹痕的表面。在晶片生产的过程中,有一系列的质量检验和检测,他们是为检测出被污染的晶片而特殊设计的。高度的污染使得仅有少量的晶片能够完成全工艺过程,从而导致成本升高。
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