半导体器件主要污染物总结
发布时间:2008/6/5 0:00:00 访问次数:899
1. 微粒
2. 金属离子
3. 化学物质
4. 细菌
微粒。半导体器件,尤其是高密度的集成电路,易受到各种污染的损害。器件对于污染的敏感度取决于较小的特征图形的尺寸和晶片表面沉积层的薄度。目前的量度尺寸已经降到亚微米级。一微米(µm)是非常小的。一厘米等于10,000微米。人的头发的直径为100微米(图5.1)。这种非常小的器件尺寸导致器件极易受到由人员,设备和工艺操作用使用的化学品所产生的存在于空气中的颗粒污染的损害。由于特征图形尺寸越来越小,膜层越来越薄,所允许存在的微粒尺寸也必须被控制在更小的尺度上。
图 5.1 一微米的相对大小
图 5.2
2. 金属离子
3. 化学物质
4. 细菌
微粒。半导体器件,尤其是高密度的集成电路,易受到各种污染的损害。器件对于污染的敏感度取决于较小的特征图形的尺寸和晶片表面沉积层的薄度。目前的量度尺寸已经降到亚微米级。一微米(µm)是非常小的。一厘米等于10,000微米。人的头发的直径为100微米(图5.1)。这种非常小的器件尺寸导致器件极易受到由人员,设备和工艺操作用使用的化学品所产生的存在于空气中的颗粒污染的损害。由于特征图形尺寸越来越小,膜层越来越薄,所允许存在的微粒尺寸也必须被控制在更小的尺度上。
图 5.1 一微米的相对大小
图 5.2
1. 微粒
2. 金属离子
3. 化学物质
4. 细菌
微粒。半导体器件,尤其是高密度的集成电路,易受到各种污染的损害。器件对于污染的敏感度取决于较小的特征图形的尺寸和晶片表面沉积层的薄度。目前的量度尺寸已经降到亚微米级。一微米(µm)是非常小的。一厘米等于10,000微米。人的头发的直径为100微米(图5.1)。这种非常小的器件尺寸导致器件极易受到由人员,设备和工艺操作用使用的化学品所产生的存在于空气中的颗粒污染的损害。由于特征图形尺寸越来越小,膜层越来越薄,所允许存在的微粒尺寸也必须被控制在更小的尺度上。
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2. 金属离子
3. 化学物质
4. 细菌
微粒。半导体器件,尤其是高密度的集成电路,易受到各种污染的损害。器件对于污染的敏感度取决于较小的特征图形的尺寸和晶片表面沉积层的薄度。目前的量度尺寸已经降到亚微米级。一微米(µm)是非常小的。一厘米等于10,000微米。人的头发的直径为100微米(图5.1)。这种非常小的器件尺寸导致器件极易受到由人员,设备和工艺操作用使用的化学品所产生的存在于空气中的颗粒污染的损害。由于特征图形尺寸越来越小,膜层越来越薄,所允许存在的微粒尺寸也必须被控制在更小的尺度上。
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